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低溫等離子光化學(xué)設(shè)備

簡要描述:低溫等離子光化學(xué)設(shè)備運行過程中不會產(chǎn)生二次污染。凈化作用持久,無需特殊照顧,運行維護(hù)費用低。除霧后,達(dá)到國家排放標(biāo)準(zhǔn)的氣體通過引風(fēng)機(jī)排入大氣。

  • 產(chǎn)品型號:一體化
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-09-13
  • 訪  問  量:2498

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品牌蘭寶環(huán)保加工定制

 

VOCs廢氣處理技術(shù)--低溫等離子光化學(xué)設(shè)備

 

 

1)煙氣經(jīng)過管道收集,在進(jìn)入煙氣治理設(shè)備之前先經(jīng)過管道過濾器粗濾,防止大顆粒物進(jìn)入處理設(shè)備,給設(shè)備造成影響。

2)煙氣粗濾后進(jìn)入預(yù)處理模塊,預(yù)處理模塊采用油煙分離板構(gòu)造,將煙氣中夾雜的焦油、粉塵去除。

 3)經(jīng)過預(yù)處理模塊除油煙后,煙氣進(jìn)入設(shè)備的核心處理區(qū)域----等離子凈化區(qū),等離子凈化采用注入式等離子發(fā)生裝置。外界新鮮空氣經(jīng)低溫等離子發(fā)生裝置,得到等離子體送入等離子凈化區(qū)。在等離子凈化區(qū),大部分煙氣分子被等離子體轟擊、氧化后變成無毒、無色、又無味的氣體。

 4)夾雜著部分低溫等離子體的煙氣到達(dá)光化學(xué)模塊。高強(qiáng)輻照場對煙氣成份有破壞作用并產(chǎn)生活潑的次生氧化劑;煙氣成份在氧化劑和光的協(xié)同作用下持續(xù)發(fā)生氧化分解,后生成二氧化碳和水。

5)超微凈化模塊設(shè)有順流循環(huán)噴淋系統(tǒng)、錯流循環(huán)噴淋系統(tǒng)、重力沉降、碰撞除塵、氣流均布裝置,可以去除微小粉塵,滿足排放標(biāo)準(zhǔn)。

6)低溫等離子光化學(xué)設(shè)備整個煙氣治理設(shè)備中均設(shè)計有自清系統(tǒng),利用循環(huán)水對系統(tǒng)進(jìn)行自動清潔。在光化學(xué)區(qū)和超微凈化模塊所產(chǎn)生的廢水經(jīng)過濾系統(tǒng)的過濾后循環(huán)利用。

7)氣體在排放前,再經(jīng)過機(jī)械除霧區(qū)。在除霧區(qū)內(nèi),氣體中夾帶的水霧在折流板功能段內(nèi)凝聚、滴落。

 

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